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氧化铈稳定氧化锆（Ce-TZP）研磨介质，0.6–0.8 mm。 用于纳米级分散和超细湿法研磨的高韧性珠体。Ce-TZP能够抵抗在高温、高湿、高能研磨环境下会导致氧化钇稳定介质性能退化的水热老化问题，因此是卧式珠磨机进行长时间连续作业的更佳选择。
技术规格
| 材料 | 氧化铈稳定氧化锆 (Ce-TZP) |
| 化学成分 | ZrO₂ ≥ 80% CeO₂ ≤ 20% |
| 珠体尺寸 | 0.6–0.8 mm |
| 密度 | ≥ 5.95 g/cm³ |
| 维氏硬度 | ≥ 10 GPa |
| 抗压强度 | ≥ 2,000 N |
| 磨损率 | ≤ 0.1‰/h |
| 真圆度 | ≥ 95% |
| 吸水率 | ≤ 0.01% |
| 外观 | 黄色 |
应用领域
- 锂电池浆料：正负极材料分散、导电剂解聚
- 纳米材料分散：亚微米及纳米级颗粒加工
- 油墨、颜料及涂料：高剪切连续研磨
- 电子材料：介电及功能性陶瓷粉体
兼容设备
卧式和立式搅拌珠磨机、篮式研磨机以及实验室规模的湿法研磨机。此尺寸珠体仅适用于湿法研磨。要求分离筛网或间隙尺寸小于 0.6 mm。
氧化铈与氧化钇对比
Ce-TZP具有更优异的断裂韧性和水热稳定性；Y-TZP则具有略高的密度和硬度。对于水性浆料、高温环境或长期连续运行的工艺，氧化铈稳定介质通常使用寿命更长。
订购信息
按公斤销售。如需批量价格或在选择氧化铈与氧化钇稳定介质方面需要帮助，请联系我们。
